圖片來源：拍信網正版圖庫

官網資料顯示，匯成真空成立于2006年，是一家面向全球的真空應用解決方案提供商，研發(fā)、生產和銷售光學鍍膜設備、功能性薄膜涂層設備、裝飾涂層設備、卷繞鍍膜設備、汽車零部件鍍膜設備、連續(xù)式磁控濺射鍍膜生產線、超高真空系統(tǒng)等真空設備、ALD原子層沉積設備、半導體設備、電子生產設備、光電設備、光伏設備、動力電池設備及產品相關配件，專注設備與產品的相關制造工藝和應用技術、控制軟件、工藝流程控制軟件及相關生產自動化軟件的研發(fā)、應用。

?技術方面，匯成真空重點發(fā)展連續(xù)式磁控鍍膜生產線、柔性薄膜卷繞鍍膜技術、光學鍍膜技術及離子鍍膜技術，包括非平衡磁控、中頻磁控濺射、電弧蒸發(fā)源、離子源輔助鍍膜、電子束蒸發(fā)、PECVD等多種核心技術組合，針對每個行業(yè)的特殊需求，將尖端設備技術和綜合工序以及應用專業(yè)技術相結合，從研發(fā)、原型制作到批量生產，提供定制化的真空應用工藝技術及設備解決方案。

SiC業(yè)務方面，近日，匯成真空公開一項“一種高均勻性碳化硅高溫氧化爐”專利，申請公布號為CN117824353A，申請日期為2024年1月2日。

該專利摘要顯示，本發(fā)明公開了一種高均勻性碳化硅高溫氧化爐，其包括工藝腔體、晶圓架、爐門、預加熱腔和旋轉機構，爐門通過升降機構安裝在工藝腔體的下方，工藝腔體內部設有工藝爐管和加熱器，晶圓架通過旋轉機構安裝在爐門上，使用時由旋轉機構帶動晶圓架轉動；預加熱腔安裝在工藝腔體的上面，預加熱腔通過氣體通道與工藝爐管連通，預加熱腔內設有預加熱裝置，預加熱腔上設置進氣口，工藝腔體的遠離預加熱腔的位置設置抽氣口；使用時從進氣口輸入工藝氣體，工藝氣體經預加熱腔的預加熱裝置加熱后再進入工藝爐管內，同時從抽氣口抽出氣體。本發(fā)明能更均勻的對內部的晶圓片進行加熱，從而得到更高質量的碳化硅柵氧層。

6月5日，匯成真空首次公開發(fā)行股票并在深交所創(chuàng)業(yè)板成功上市。（集邦化合物半導體Zac整理）

更多SiC和GaN的市場資訊，請關注微信公眾賬號：集邦化合物半導體。