東芝公布碳化硅新技術(shù)

作者 | 發(fā)布日期 2025 年 06 月 11 日 17:08 | 分類 企業(yè) , 碳化硅SiC

近日,東芝發(fā)布公告表示,其基于自主研發(fā)的“小型芯片布局設計技術(shù)”和“基于AI設計優(yōu)化技術(shù)”,開發(fā)出了一種“樹脂絕緣型SiC功率半導體模塊”,能顯著提高使用“樹脂”作為絕緣基板的SiC功率模塊的功率密度(單位面積的功率處理能力)。

東芝介紹,無論何種絕緣類型(包括陶瓷)的功率模塊都會發(fā)熱,因此,當將其裝入功率轉(zhuǎn)換器時,需要冷卻裝置來散熱并降低功率損耗。樹脂絕緣基板具有比陶瓷更難散熱的特性,因此需要大型冷卻裝置來保持高性能,但這又帶來了另一個問題:設備尺寸會變得更大。

因此,東芝將模塊上搭載的SiC功率半導體芯片的面積做得比以前更小,并增加了芯片的搭載數(shù)量,使其分布在整個模塊上。由于芯片的散熱面積呈放射狀向模塊底部的散熱器方向擴散,因此,增加芯片數(shù)量可以擴大散熱面積,從而提高熱阻。

圖片來源:東芝

如果芯片位置不當,散熱區(qū)域就會發(fā)生干擾,無法有效擴大散熱面積。此外,隨著芯片數(shù)量的增加,模塊設計參數(shù)也會隨之增加,難以實現(xiàn)兼顧寄生電阻和開關(guān)損耗等電氣和熱特性的全面優(yōu)化設計。因此,東芝利用自主研發(fā)的AI優(yōu)化算法,優(yōu)化芯片位置、芯片安裝銅箔布局等模塊設計參數(shù),成功改善了熱阻、寄生電阻和開關(guān)損耗,并在芯片數(shù)量增加的情況下擴大了最大散熱面積。

使用優(yōu)化的設計參數(shù)制作出試制模塊結(jié)構(gòu)后,與以往的陶瓷絕緣SiC功率模塊相比,樹脂絕緣SiC功率模塊的熱阻降低了21%,寄生電阻降低了21%,開關(guān)損耗降低了19%。高熱阻是樹脂絕緣SiC功率模塊存在的問題,而此技術(shù)不僅大幅改善了熱阻,還改善了寄生電阻和開關(guān)損耗,其性能實際上超越了陶瓷絕緣SiC功率模塊。

圖片來源:東芝

基于這些結(jié)果,東芝估算了將開發(fā)的模塊應用于常用逆變器時冷卻系統(tǒng)尺寸的縮小效果,并試算得出冷卻系統(tǒng)尺寸可縮小61%。

此技術(shù)可實現(xiàn)功率轉(zhuǎn)換器的小型化,從而減少安裝空間和成本,并有望通過電動汽車和可再生能源的進一步普及為實現(xiàn)碳中和做出貢獻。

(集邦化合物半導體整理)

更多SiC和GaN的市場資訊,請關(guān)注微信公眾賬號:集邦化合物半導體。