近期，上海芯上微裝科技股份有限公司（以下簡稱“芯上微裝”）自主研發(fā)的首臺350nm步進(jìn)光刻機(jī)（AST6200 ）正式完成出廠調(diào)試與驗(yàn)收，啟程發(fā)往客戶現(xiàn)場，將為國產(chǎn)化合物半導(dǎo)體制造提供強(qiáng)有力的核心裝備支撐。
圖片來源：芯上微裝
AST6200光刻機(jī)是芯上微裝基于多年光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)、精密運(yùn)動控制與半導(dǎo)體工藝?yán)斫夥e淀，傾力打造的高性能、高可靠性、全自主可控的步進(jìn)式光刻設(shè)備，專為功率、射頻、光電子及Micro LED等先進(jìn)制造場景量身定制。核心性能亮點(diǎn)包括：
高分辨率成像滿足先進(jìn)工藝需求，搭載大數(shù)值孔徑投影物鏡，結(jié)合多種照明模式與可變光瞳技術(shù)，實(shí)現(xiàn)350nm高分辨率，滿足當(dāng)前主流化合物半導(dǎo)體芯片的光刻工藝要求。
高精度套刻配置高精度對準(zhǔn)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)正面套刻80nm，背面套刻500nm，確保多層圖形精準(zhǔn)套刻，提升器件良率。
高產(chǎn)率設(shè)計(jì)，顯著降低擁有成本（COO）
- 高照度I-line光源（365nm）
- 高速直線電機(jī)基底傳輸系統(tǒng)，支持2/3/4/6/8英寸多種規(guī)格基片快速切換
- 高速高精度運(yùn)動臺系統(tǒng)，最大加速度1.5g，大幅提升單位時間產(chǎn)能
- 強(qiáng)工藝適應(yīng)性，兼容多材質(zhì)、多形態(tài)基底
支持Si、SiC、InP、GaAs、藍(lán)寶石等多種材質(zhì)基片
- 兼容平邊、雙平邊、Notch等多種基片類型
- 創(chuàng)新調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)，采用多光斑、大角度入射設(shè)計(jì)，可精準(zhǔn)測量透明、半透明、不透明及大臺階基底
- 支持背面對準(zhǔn)模塊，滿足鍵合片等復(fù)雜制程的背面對準(zhǔn)需求
- 100%軟件自主可控打造全棧國產(chǎn)生態(tài)，AST6200搭載芯上微裝自主研發(fā)的全棧式軟件控制系統(tǒng)
- 從底層驅(qū)動到上層工藝管理，實(shí)現(xiàn)完全自主主權(quán)。系統(tǒng)具備強(qiáng)大的工藝擴(kuò)展性與遠(yuǎn)程運(yùn)維能力
- 持續(xù)賦能設(shè)備生命周期，助力客戶實(shí)現(xiàn)智能化產(chǎn)線升級。
（集邦化合物半導(dǎo)體整理）
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