碳化硅外延設備相關廠商鎧欣半導體完成B輪融資

作者 | 發(fā)布日期 2024 年 09 月 24 日 17:05 | 分類 企業(yè)

繼硅酷科技完成億元級融資后,近日又有一家碳化硅設備相關廠商完成新一輪融資。

圖片來源:拍信網正版圖庫

9月19日,據天眼查披露信息,蘇州鎧欣半導體科技有限公司(下文簡稱:鎧欣半導體)完成B輪融資,投資方為欣柯創(chuàng)投。此前,鎧欣半導體已在2022年6月和2023年5月分別完成天使輪和A輪融資。

官網資料顯示,鎧欣半導體成立于2019年,總部坐落于江蘇蘇州,制造基地位于湖南益陽,致力于半導體領域高純碳化硅涂層及陶瓷零部件的研發(fā)、生產、銷售、應用服務與開發(fā)支持。其湖南制造基地(湖南鎧欣新材料有限公司)建立了化學氣相沉積(CVD)碳化硅涂層生產線、精密加工中心和產品檢驗檢測中心等生產制造系統(tǒng)。

目前,鎧欣半導體產品主要有硅外延設備碳化硅石墨基座、寬禁帶半導體外延設備石墨基座、MOCVD設備碳化硅石墨基座、半導體設備用純碳化硅產品和燒結碳化硅產品、光伏&半導體碳化硅涂層熱場產品、純石墨件產品等,廣泛應用于硅基半導體、寬禁帶半導體、LED、光伏等領域,

據悉,CVD碳化硅涂層的基本流程是首先將需制備SiC涂層的試樣放入反應管中,接著以MTS為先驅體原料,在950-1300℃、負壓條件下沉積SiC涂層在試樣表面。作為國內較早研發(fā)CVD碳化硅的企業(yè)之一,鎧欣半導體擁有CVD核心技術的自主知識產權。(集邦化合物半導體Zac整理)

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