氮化鎵高電子遷移率晶體管(HEMT)技術(shù)正迎來重大突破。近日,純化合物半導(dǎo)體代工廠#穩(wěn)懋半導(dǎo)體(WIN Semiconductors)推出基于SiC襯底的0.12微米柵極長度D型GaN HEMT技術(shù),預(yù)計(jì)2025年第三季度量產(chǎn),這將顯著提升高頻射頻電路性能,加速GaN技術(shù)在5G/...  [詳內(nèi)文]
穩(wěn)懋半導(dǎo)體發(fā)布基于SiC襯底的0.12μm GaN HEMT |
作者
KikiWang
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發(fā)布日期:
2025 年 06 月 06 日 13:56
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關(guān)鍵字:
氮化鎵
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