2024年1月18日,納設智能在先進材料制造裝備領域邁出了重要一步——自主研發(fā)的首臺原子層沉積設備已經(jīng)完成了所有生產(chǎn)和測試流程,順利出貨!
source:納設智能
原子層沉積(Atomic Layer Deposition,簡稱ALD)是一種薄膜沉積技術,可歸于化學氣相沉積大類...  [詳內文]
納設智能首臺原子層沉積設備出貨 |
作者 huang, Mia | 發(fā)布日期: 2024 年 01 月 22 日 10:43 | | 分類: 企業(yè) |