從硅(Si)到砷化鎵(GaAs),再到碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN),半導(dǎo)體材料禁帶寬度的拓寬始終驅(qū)動著性能邊界的拓展。如今,氧化鎵(Ga?O?)作為第四代超寬禁帶半導(dǎo)體材料的代表,正以其顛覆性的物理特性與成本優(yōu)勢,掀起一場新的半導(dǎo)體革命。
氧化鎵熔點高達1900℃,不溶于水...  [詳內(nèi)文]
亞洲氧化鎵技術(shù)迎新進展 |
| 作者 KikiWang|發(fā)布日期 2025 年 04 月 14 日 13:44 | 分類 企業(yè) , 氧化鎵 |
