3月20日,杭州鎵仁半導體有限公司(下文簡稱“鎵仁半導體”)宣布,公司聯(lián)合浙江大學杭州國際科創(chuàng)中心先進半導體研究院、硅及先進半導體材料全國重點實驗室,采用自主開創(chuàng)的鑄造法于今年2月成功制備了高質量6英寸非故意摻雜及導電型氧化鎵(β-Ga2O3)單晶,并加工獲得了6英寸氧化鎵襯底片...  [詳內文]
國內首個6英寸氧化鎵襯底產業(yè)化公司誕生 |
作者 huang, Mia|發(fā)布日期 2024 年 03 月 21 日 11:21 | 分類 企業(yè) |