華為公司與山東大學(xué)的研究團(tuán)隊(duì)近日聯(lián)合宣布,他們在高壓電力電子器件領(lǐng)域取得了重大突破。雙方成功開發(fā)出一種1200V全垂直GaN-on-Si溝槽MOSFET,其核心技術(shù)創(chuàng)新——氟注入終端(FIT-MOS)技術(shù)——顯著提升了器件的性能,使其達(dá)到了與成本高昂的GaN襯底器件相當(dāng)?shù)乃?。這...  [詳內(nèi)文]
華為最新披露,1200V全垂直GaN技術(shù)進(jìn)展 |
作者 KikiWang|發(fā)布日期 2025 年 08 月 25 日 13:38 | 分類 企業(yè) , 氮化鎵GaN |