近日,麻省理工學(xué)院(MIT)的研究團(tuán)隊(duì)取得了一項(xiàng)重大技術(shù)突破,開發(fā)出一種創(chuàng)新的制造工藝,能夠?qū)⒏咝阅艿墸℅aN)晶體管與標(biāo)準(zhǔn)硅芯片進(jìn)行三維集成。這一成果有望顯著提升高頻應(yīng)用(如視頻通話和實(shí)時(shí)深度學(xué)習(xí))的性能表現(xiàn),為半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展開辟新的道路。
圖片來源:麻省理工學(xué)院新聞
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麻省理工學(xué)院推出氮化鎵與硅芯片3D集成新技術(shù) |
作者
KikiWang
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發(fā)布日期:
2025 年 06 月 24 日 14:44
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關(guān)鍵字:
氮化鎵
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